▲ 2014 한중일 디자인포럼 포스터     © 특허청

특허청이 중국, 일본 특허청과 공동으로 오는 18일 서울 동대문디자인플라자 국제회의실에서「한·중·일 디자인포럼」을 개최한다고 밝혔다.

올해로 다섯 번째를 맞는「한·중·일 디자인포럼」은 한국, 중국, 일본 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 당면 과제와 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성되었고, 매년 3국이 돌아가면서 개최하고 있다. ‘12년에는 일본의 도쿄, ’13년에는 중국의 우쉬(Wuxi)에서 개최된 바 있다.
 
올해 디자인포럼은 때마침 ‘61년 제정이래 가장 큰 폭으로 개정된 「디자인보호법」과 「헤이그협정에 의한 국제디자인등록출원」제도의 시행을 보름여 앞둔 상황에서 개최되는 것이라 매우 의미 있는 행사라 할 수 있다.
 
또한, 올해 한·중·일 디자인포럼은「Design, beyond protection」라는 주제로 개최되는데, 비단 디자인의 법적 보호에 관한 내용뿐만 아니라, 3D 프린터의 대중화 등 東 아시아 3국의 디자인계에서 일어나고 있는 변화의 움직임, 디자인의 공유와 활용을 통해 제3세계를 지원하거나 지역사회의 산업을 되살리고 있는 사례 등 디자인의 다양한 측면을 균형 있게 다룰 예정이다.
 
이번 포럼은 변리사, 변호사 등 지식재산권관련 종사자뿐만 아니라 실무디자이너, 학생 등 디자인에 관심이 있는 사람이면 누구나 부담 없이 참가할 수 있고, 최근에 공개되어 세간의 시선을 끌고 있는 동대문디자인플라자에서 개최되는 것이라 다양한 볼거리도 아울러 제공할 수 있을 것으로 기대된다.
 
특허청 김영민 청장은 “이번「한·중·일 디자인포럼」을 통해 디자인권리의 중요성에 대한 인식이 널리 확산하기를 기대하며, 앞으로 특허청은 창조경제의 핵심 엔진이라고 할 수 있는 디자인의 창작이 더욱 활성화되고 창작자의 노력이 정당하게 보호될 수 있도록 제도적 기반을 다져나가겠다.”라고 밝혔다.